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紫外曝光机

发布日期: 2015-06-05

•品牌型号:Karl Suss Micro Tec Lithography GmbH MA6

•曝光光源:UV300  1000W汞灯

•光源波长:405 nm 和365 nm

•模板尺寸:支持 2.5英寸和5英寸掩膜板

•晶片尺寸:2-6英寸

•对准模式:正面和背面两种对准方式

•光源均匀性:<1%

•最小线宽:0.5μm

•对准精度:±0.5μm

•曝光方式:真空、低真空接触、硬接触、软接触、接近式接触和泛曝光

主要附件: 涂胶机;HP8热板;显影机,光学显微镜

 

紫外曝光机采用紫外光源,制作亚微米(最小线宽0.5 μm)的图形。可用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成,如制作下列器件结构:微电子器件,光电子器件,生物传感器,微机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件等,也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。   


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