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纳米压印系统

发布日期: 2015-06-09
 
型号:MicroTec

厂家:德国Karl Suss
技术指标:
 
压印精度:30nm 
 
重复性:±10nmpitch
 
               ±15nmdepth 
                      晶圆尺寸:2”, 4’’
                      最大模具尺寸:6’’
                      脱模方式:真空顺序脱模

主要功能及应用范围 采用气体软压技术,压印均一性与一致性良好。典型使用领域:光子晶体、亚波长光学器件、OLED、生物微沟道、有机薄膜晶体管、渐变折射率层等。


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