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反应离子束刻蚀(RIE)

发布日期: 2015-06-09

 

型号:NRE-4000
厂家:美国Nanomaster公司
技术指标:
  反应气体:O2, Ar, CF4,CHF3
 RF最大功率:600W 
 电极尺寸:240mm
 刻蚀材料:氧化物、半导体、金属等
 最大晶片尺寸:6英寸

主要功能及应用范围
    用于各种材料的离子束反应刻蚀,辅助形成微/纳结构。可用于各种微纳器件与结构的制作,如:微纳电子器件,光电子器件,生物传感器,微纳机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件等,也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。


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