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电子束蒸发镀膜机

发布日期: 2015-06-09

型号:HVC-800DA
厂家:韩国Hanil真空
技术指标
 (1)可沉积各种金属材料包括难熔金属、绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品. 
 (2)具有高真空(< 2×10-7 Torr ), 低腔温(<90oC),适合Lift-Off制程要求.
 (3)可装载标准的2’’和4’’的晶片和不规则大小的样品,样品的均匀性 <3%. 
 (4)设置6个坩锅,可以完成不同金属薄膜的多层沉积.
 (5)配有膜厚仪实时对膜厚进行检测,实现对薄膜的厚度的精确控制。

(6)配备软件操作系统,可编制沉积程序,并可选择进行手动和自动制程。

主要功能及应用范围
   主要用于光学膜、电学膜以及半导体领域的高质量薄膜的沉积。


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